多通道分布催化劑
裝置描述：本裝置為兩套多通道小型加氫反應裝置。一套框架兩套反應裝置，工藝部分完全獨立，控制部分共用一套控制系統。
工藝參數：
催化劑裝填量：2~4ml/3~7ml
操作壓力4~8mpa
設計壓力10mpa
反應溫度：800攝氏度
設計溫度：900攝氏度
